产品特点: 采用频率为数十千赫兹的中频电源,配备经过严格磁路设计的孪生靶(对靶),可以避免“打火”、“阳极消失”、“靶中毒”等现象,提高了离化率、溅射速率,显著提高沉积速度,适合做化合物薄膜(如TiO2、TiN、TiC、TiCN、TiAlN等)的沉积。中频磁控离子镀膜机在近几年得到了迅猛的发展,在钟表、眼镜、五金等装饰度领域得到广泛的应用。 技术参数: 真空室箱体:主要规格有8001000mm、10001200mm,并可以根据客户具体要求设计非标产品。夹具方式:采用公自转行星式齿轮结构,工件速度在1-15转/分钟可调。控制气体方式:采用质量流量计控制,进气稳定,反应速度快。靶:采用整体制造技术,严格缜密的磁场设计和磁路布局,溅射刻蚀均匀。电源:配置有中频电源(20KW、40KW等规格)、直流脉冲电源(电压、占空比可调节),并可根据实际的情况加装离子源等辅助设施。抽气系统:采用国产品牌机械泵、罗茨泵、扩散泵,根据其真空室大小确定合理型号。也可以根据客户的需要配备分子泵或者进口泵等。抽真空参数:从大气抽至510 ̄3Pa15min极限真空度810 ̄4Pa。
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